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氧化鋁水性漿料分散機(jī),這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦GMSD2000系列研磨分散機(jī),*的結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,效果好、效率高。
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一、產(chǎn)品名稱:氧化鋁水性漿料分散機(jī),氧化鋁水性漿料高速分散機(jī),氧化鋁水性漿料納米分散機(jī),氧化鋁水性漿料超細(xì)分散機(jī),氧化鋁漿料分散機(jī)
二、氧化鋁的核心應(yīng)用
氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。
二、氧化鋁的分散問題
近年來,已超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大,表面活性高,單個超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),顆粒之間因?yàn)橄嗷ノ鴪F(tuán)聚,易于失去超細(xì)粉體*的性能,因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散,是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。
在水溶液中,氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩(wěn)定性的因素有很多,如:分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。
當(dāng)物料工藝確定后,影響分散穩(wěn)定性的*因素就是漿料中粒子的半徑,半徑越小,沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦GMSD2000系列研磨分散機(jī),*的結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,效果好、效率高。
四、氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦
結(jié)合多家化工企業(yè)案例,我司推薦GMSD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細(xì)的物料粒徑,一般為2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài)。
五、SGN氧化鋁水性漿料分散機(jī)結(jié)構(gòu)
氫,是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢在于,粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時分散十分重要,而砂磨機(jī)難以分散。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三層變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
六、選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 7200 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
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