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產(chǎn)品展示/ Product display

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光觸媒研磨分散機(jī)

光觸媒研磨分散機(jī),應(yīng)對納米級物料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,納米級漿料進(jìn)入研磨分散后,行研磨將團(tuán)聚體打開,然后再經(jīng)過分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-07-09
  • 訪  問  量:435
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詳細(xì)介紹

光觸媒研磨分散機(jī),納米光觸媒分散機(jī),光觸媒分散機(jī),納米二氧化鈦分散機(jī),光觸媒超細(xì)分散機(jī),納米分散機(jī)


光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。在所有的光觸媒材料中,納米TiO2不僅具有很高的光催化活性,且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性價(jià)比,因而市場上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鳛橹饕牧稀?/span>


對于納米級物料的分散,容易出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,納米二氧化鈦的分散也不例外。團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。


納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較*,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。

 光觸媒研磨分散機(jī)

光觸媒研磨分散機(jī)SGN高剪切研磨分散機(jī)是納米物料分散設(shè)備中*,在多個領(lǐng)域的納米分散中都有著突出的應(yīng)用。如:納米二氧化鈦、納米二氧化硅、石墨烯、碳納米管、納米樹脂、納米涂料等!


SGN研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備,將兩者一體化,解決了時間差的問題,因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個瞬間的過程,研磨后立即分散,效果好,效率高。


GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

光觸媒研磨分散機(jī)


SGN化工研磨分散設(shè)備選型表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD 2000/4

300

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1000

10,500

44

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

3000

7,300

44

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

8000

4,900

44

37

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

44

55

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

2,000

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

         
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