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納米碳酸鈣高剪切研磨分散機

納米碳酸鈣高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

  • 產品型號:XMD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1350
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詳細介紹

納米碳酸鈣高剪切研磨分散機

 

納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散機,納米碳酸鈣分散機是 透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

納米碳酸鈣分散機

 

納米粉體的團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩定狀態,因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團聚,形成團聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個顆粒內部有細小孔隙。

納米顆粒的團聚一般分為兩種:軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理,人們的看法比較一致,即,軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學作用或施加機械能的方式來消除。

納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散機,納米碳酸鈣分散機是化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

納米碳酸鈣高剪切研磨分散機

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