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負載催化劑高速均質分散機

負載催化劑高速均質分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

  • 產品型號:XMD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1457
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詳細介紹

負載催化劑高速均質分散機

為了避免納米粒子的聚集和催化活性的降低,開發新型碳載體以促進催化劑的電化學性能也引起了越來越多的關注。碳納米管(CNTs),碳納米纖維(CNFs),碳納米線圈,有序介孔碳(OMCs)和石墨烯等碳材料具有順序結構和高導電性,可以顯著提高Pt基催化劑的性能。

具有優良結構穩定性,電性能和強界面偶聯的分層MoS2/Ti3C2-MXene@C納米材料通過將碳涂覆的少量層狀MoS2納米片組裝在碳穩定的Ti3C2MXene上來制備,表現出非常好的析氫反應性能(HER),在酸性溶液中具有正向起始電位,低過電位和長時間穩定性。通過相互擴散輔助方法將二苯基二甲酸1,4-苯二甲酸酯與Ti3C2Tx納米片的混合材料施加在具有10mA cm-2電流密度的OER中,電勢為1.64V,相對于可逆氫電極在0.1M KOH中的Tafel斜率為48.2mV dec-1。由于Ti2C與g-C3N4之間有效的協同作用,合成了一種由二維碳化鈦(Ti2C)和石墨氮化碳(g-C3N4)組成的新型光催化劑,以提高水 活性。這些研究表明,與原始的Ti3C2Tx納米片相比,載有電催化活性組分的Ti3C2Tx納米片顯示出 的電催化性能。

一種負載型催化劑的制備方法,包括以下步驟:

提供載體和催化劑前驅體在溶劑中的混合分散液;將混合分散液采用等離子體進行照射,即得;所述溶劑包括氧源溶劑和水,所述氧源溶劑為醇類化合物;所述催化劑前驅體為可溶于水的過渡金屬元素化合物。

所述混合分散液的制備方法包括:將催化劑前驅體溶于水制得催化劑前驅體溶液;將載體分散在氧源溶劑中得到載體分散液;將載體分散液與催化前驅體分散液混勻,即得。

高速剪切均質分散機主要應用于處理大量生成超細懸乳液。由于同時用三個均質頭(轉子和定子)進行處理,可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,因而生成的混合液的穩定性 。分散頭容易更換,適合于各種不同的應用。不同的機器都有相同的轉速和剪切率,這樣便于規模擴產。符合CIP和SIP的清潔標準,因此特別適合于食和藥品生產。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是 重要的。根據一些行業特殊要求,希德2000系列的基礎上又開發出XMD2000 速剪切均質機。其剪切速率可以超過13,000 rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力 ,乳液的粒經分布 窄。由于能量密度 ,無需其他輔助分散設備。

分散機采用博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續運行。而普通乳化機很難做到連續長時間的運行,并且普通乳化機不能承受高轉速的運行。可以處理量大,運轉 平穩,拆裝 方便,適合工業化在線連續生產,粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料 通過分散剪切。

負載催化劑高速均質分散機

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