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新霉素軟膏劑乳化均質機高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時或納米級時,體系可被認為均質。
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新霉素軟膏劑乳化均質機
一、產品名稱概述:金霉素眼膏均質機,紅霉素眼膏均質機,青霉素眼膏均質機,軟膏劑高剪切均質機,溶解分散均質機
二、太倉希德高剪切均質機特點
真空高速均質機過皮帶傳送,可實現2到3倍的加速,同時立式直立的轉軸,運轉穩定性大大提高,同時轉子動平衡性得到提高,間隙也允許縮小而不產生摩擦。因此立式濕法研磨機有好的乳化分散粉碎均質。根據其定轉子剪切的原理,還可以實現固體物料在液體介質中的粉碎,超細物料的均勻分散,以及加速大分子物質的溶解。經過特別設計的高剪切膠體磨也可以成為反應發生的場所,比如兩種液體物料反應生成固體顆粒,通過分別通入腔體,兩種物料接觸時被剪切成微滴,均勻混合后反應生成的粒子大小均勻,并且粒徑很小。
三、軟膏劑概述
軟膏劑(ointments)系指藥物(與油脂性或水溶性基質混合制成的均勻的半固體外用制劑。用乳狀型基質制備的軟膏劑又稱乳膏劑(creams);含有大量藥物粉末(一般25%以上)的軟膏劑稱糊劑(pastes)。
軟膏劑在醫療上主要用于皮膚、黏膜表面,起局部保護和作用。實際應用中由于皮膚病灶的深淺不同,要求作用產生的部位也不同,有些軟膏須在皮膚外層發揮效用,如用作防護劑,角質溶解劑等;有些藥物要求透入表皮才能發揮局部,如氟尿嘧啶、抗組胺類及皮質激素類藥物;有些藥物則要求通過透皮吸收產生全身**作用,如XX軟膏涂于胸前,使其作用時間延長。軟膏劑的類型按分散系統可分為三類,即溶液型、混懸型和乳劑型。
四、軟膏劑的制備方法簡介
軟膏劑的一般質量要求是:
①軟膏劑應均勻、細膩,涂在皮膚上無粗糙感;
②有適當的黏稠性,易涂布于皮膚或黏膜等部位;
③性質穩定,無酸敗、變質等現象;
④無刺激性、過敏性及其他不良反應;
⑤用于創面的軟膏劑還應無菌
五、高剪切均質設備作用
高剪切乳化均質機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時或納米級時,體系可被認為均質。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經過高頻管線式高剪切均質機的循環往復,*終得到穩定的高品質產品。
六、高剪切均質機與高壓均質機的均質機理的比較
比較 | 高剪切均質機 | 高壓均質機 | ||
宏觀 | 剪切作用 | 主要通過液滴在高速旋轉的轉子和定子間的間隙內被剪切,以及由此間隙和轉子——定子上小孔射流的綜合效應來實現。 | 料液在高壓下流過縫隙時,液滴先是被延伸,后因通過閥時的渦動作用,使延伸部分剪切拉碎。 |
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均質 | 撞擊作用 | 高速旋轉的液滴受慣性離心力的推動,具有吉大的沖擊力,因而產生撞擊作用。 | 在均質閥縫隙中高速沖出的液流出口處置有擋圈,因而產生高速撞擊作用。 |
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機理 | 空穴作用 | 離心力的作用使未進入環隙時的液體具有一定壓力,而進入環隙后成為高速旋轉液流,液體離開定子小孔后壓力又回升,所以也有一定的空穴效應 | 液流進口處靜壓很高,過狹縫時,靜壓能轉化為動能,壓力迅速大幅度地下降,在其縫隙內瞬時引起空穴現象,離開縫隙后壓力的回升又使空穴消失,因而使液滴破碎 |
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微觀 | 高剪切均質機高速旋轉時的液滴流動狀況相當復雜,主要受控于作用在液滴表面不斷變化的流動速度和由此產生的脈動壓力,從而發生了分裂液滴的張力,使液滴破裂。 | 高壓均質機提供給液滴破裂的能量來自于料液在進口處攜帶的吉高靜壓能。 | ||
均質 | ||||
機理 |
七、三級高剪切均質設備介紹和參數
三級高剪切均質機器,主要用于微乳液及超細懸乳液的生產。由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規模化生產。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫藥生產。
高的轉速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據一些行業特殊要求,其剪切速率可以超過18000rpm,轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XRS2000/4 | 300-1000 | 18000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
XRS2000/5 | 1000-1500 | 10500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
XRS2000/10 | 3000 | 7300 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
XRS2000/20 | 8000 | 4900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
XRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 55 | DN150 | DN125 |
XRS2000/50 | 40000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
我公司為*,專注于膏霜真空乳化成套設備。
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