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1L實驗室真空乳化機在真空或壓力環境下,實現物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。分散、均質、乳化、反應、發酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等。
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1L實驗室真空乳化機,真空均質乳化反應釜系統,高剪切分散設備
LD標準系統的處理量有0.5L、1L、2L、5L、10L等系列,能在真空或壓力環境下,實現物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。分散、均質、乳化、反應、發酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等。
可配備多種高效宏觀攪拌器(可選)、高剪切均質乳化機(可選)以及可靠的真空密封系統和溫控系統,多種傳感檢測系統能在實驗室環境模擬工業化生產。是常規成套實驗室設備的重點選擇對象,符合成套設備的所有模擬條件。
應用領域:
分散、均質、乳化、反應、發酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等
真空、攪拌、乳化均質條件,適用膏霜制備、功能高分子合成、有機合成、乳化瀝青、改性瀝青等
LD-1L技術參數:
品牌型號: | 【SID/希德】LD-1L |
電 源: | 220V/50Hz |
zui小攪拌量: | 300ml |
zui小乳化量: | 500ml |
zui大處理量: | 1000ml |
zui高工作溫度: | 120° |
加熱方式: | 水浴、油浴循環 |
可達真空: | -0.08Mpa(正壓可選) |
zui大處理粘度: | 100000mpas |
攪拌機功率: | 120W |
攪拌機轉速: | 10~2000rpm |
槳葉配置: | 錨式刮壁攪拌槳 |
乳化均質機功率: | 500W【*】 |
乳化均質機轉速: | 10000~28000rpm |
乳化工作頭型號: | 20BCS |
反應釜蓋開口: | 均質機口+投料口+測溫口+真空口+3個備用口 |
支架升降方式: | 電動升降(手動選配) |
支架升降形成: | 210mm |
接觸物料材質: | SUS316L不銹鋼+PTEF+硅硼玻璃夾層容器 |
真空口外徑: | 10mm |
玻璃容器夾層進口、出口: | 12mm |
允許環境溫度: | 5~40℃ |
允許環境濕度: | 80% |
外包裝尺寸: | 400×390×780mm |
重量: | 35KG |
包裝方式: | 木箱包裝 |
其他: | 可定制 |
因為真空系統涉及的技術參數比較復雜,選型前請專業的工程師,已確保你的工藝無誤;
表格中的數值為準確的數據,因技術改進、非標定制的,以實際確認數值為準;
可加裝附件
PH計
電導率儀
冷凝器
滴加管
無菌取樣閥
設備整機質保期12 個月,保修期內非違規操作或無法抗拒的工況因素外,供方負責提供易損件,損壞的備件由供方認定損壞原因;
保修期外供方對設備提供終身有償維修;
LD-1L實驗室真空乳化機